2009年司法考試大綱在5月19日正式出爐,各個專業(yè)輔導機構(gòu)紛紛對大綱作了詳細解讀。
新東方北斗星司法考試王小龍老師,在接受采訪時,對2009年大綱中專利法的內(nèi)容進行了詳細闡述,內(nèi)容如下:
專利法,是屬于知識產(chǎn)權(quán)法范圍,屬于民法一部分。專利法在去年也修改了,幅度也不小,應該說考試有價值比較重要的修改之處有以下幾點:
首先第一個,它增加了對我國遺傳資源的保護。比較現(xiàn)在有很多國家搞轉(zhuǎn)基因食品,而轉(zhuǎn)基因要想成功,往往需要獲得其它國家的生物遺傳資源。在這個地方,我國以前立法是空白,現(xiàn)在增加了,遺傳資源要保護,禁止非法獲取遺傳資源來申請專利。
第二點,以前在專利的授權(quán)條件上有一個要求,叫新穎性??墒桥f法的新穎性是屬于相對新穎性的,也就是說只要國內(nèi)就行了,國外是再所不問。新的專利法進行修改,把相對新穎性改成了絕對新穎性,也就是說不僅國內(nèi),也必須做到國際才算數(shù),明顯授權(quán)條件被提高很多,門檻被提高了。
第三個修改,在舊法里,外觀設計的專利權(quán)不包括許諾銷售,而現(xiàn)在新增了一個權(quán)利,就是許諾銷售,也是外觀設計所擁有的。所以,在這里給考友要特別提醒一句,2005年考過一道真題是單選題,就是考外觀設計的權(quán)利內(nèi)容,當時確實是單選,但是按照現(xiàn)在的新法來解答,那個題的答案要修改,要變成多選了,因為增加了一個權(quán)利,是以前所沒有的。
第四個修改,專利法對以前舊法的強制許可制度和不適為侵犯專利權(quán)的行為都進行了增加,以前舊法有的行為現(xiàn)在新法還有,但是現(xiàn)在又增加了幾條,請?zhí)貏e留意一下。
第五個修改,現(xiàn)在新專利法在專利的侵權(quán)問題上增加了一個抗辯理由,叫做現(xiàn)有技術(shù)抗辯,這是舊法所沒有的。如果被控侵權(quán)人能夠證明所謂的專利是在現(xiàn)有的基礎(chǔ)之上建立的,那么它可以構(gòu)成免責理由,就不問侵權(quán),這是新增加的抗辯理由,叫現(xiàn)有技術(shù)抗辯。
第六個修改,新增加了訴前財產(chǎn)保全和證據(jù)保全,跟民訴法密切相關(guān)。這一塊以前是空白,現(xiàn)在也增加進來了。這是有關(guān)專利法的主要修改之處。
新東方北斗星司法考試王小龍老師,在接受采訪時,對2009年大綱中專利法的內(nèi)容進行了詳細闡述,內(nèi)容如下:
專利法,是屬于知識產(chǎn)權(quán)法范圍,屬于民法一部分。專利法在去年也修改了,幅度也不小,應該說考試有價值比較重要的修改之處有以下幾點:
首先第一個,它增加了對我國遺傳資源的保護。比較現(xiàn)在有很多國家搞轉(zhuǎn)基因食品,而轉(zhuǎn)基因要想成功,往往需要獲得其它國家的生物遺傳資源。在這個地方,我國以前立法是空白,現(xiàn)在增加了,遺傳資源要保護,禁止非法獲取遺傳資源來申請專利。
第二點,以前在專利的授權(quán)條件上有一個要求,叫新穎性??墒桥f法的新穎性是屬于相對新穎性的,也就是說只要國內(nèi)就行了,國外是再所不問。新的專利法進行修改,把相對新穎性改成了絕對新穎性,也就是說不僅國內(nèi),也必須做到國際才算數(shù),明顯授權(quán)條件被提高很多,門檻被提高了。
第三個修改,在舊法里,外觀設計的專利權(quán)不包括許諾銷售,而現(xiàn)在新增了一個權(quán)利,就是許諾銷售,也是外觀設計所擁有的。所以,在這里給考友要特別提醒一句,2005年考過一道真題是單選題,就是考外觀設計的權(quán)利內(nèi)容,當時確實是單選,但是按照現(xiàn)在的新法來解答,那個題的答案要修改,要變成多選了,因為增加了一個權(quán)利,是以前所沒有的。
第四個修改,專利法對以前舊法的強制許可制度和不適為侵犯專利權(quán)的行為都進行了增加,以前舊法有的行為現(xiàn)在新法還有,但是現(xiàn)在又增加了幾條,請?zhí)貏e留意一下。
第五個修改,現(xiàn)在新專利法在專利的侵權(quán)問題上增加了一個抗辯理由,叫做現(xiàn)有技術(shù)抗辯,這是舊法所沒有的。如果被控侵權(quán)人能夠證明所謂的專利是在現(xiàn)有的基礎(chǔ)之上建立的,那么它可以構(gòu)成免責理由,就不問侵權(quán),這是新增加的抗辯理由,叫現(xiàn)有技術(shù)抗辯。
第六個修改,新增加了訴前財產(chǎn)保全和證據(jù)保全,跟民訴法密切相關(guān)。這一塊以前是空白,現(xiàn)在也增加進來了。這是有關(guān)專利法的主要修改之處。